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fotolitografía

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Fotolitografía (Junio 2019).

Anonim

La fotolitografía es ampliamente utilizada en el sector de la electrónica. © DustyDingo, Wikipedia, DP

La fotolitografía es una técnica de fabricación ampliamente utilizada en el campo de los semiconductores, como es el caso de la electronitrografía de barrido.

Principio de la fotolitografía

El principio es el mismo que para la litografía, excepto que la fotolitografía consiste más específicamente en una reproducción de imagen de una máscara en un sujeto recubierto con una capa fotosensible fotosensible.

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La resina fotosensible, generalmente compuesta de polímeros termoplásticos, se deposita por centrifugación en una película fina (unos pocos micrómetros) uniformemente. Cuando el sustrato tiene un relieve marcado, la resina puede depositarse mediante pulverización.

Después del recubrimiento del sustrato, un alineador permite, como su nombre indica, alinear el sustrato y la máscara. Esta operación debe realizarse con la mayor precisión.

UV en la base de la fotolitografía

Luego viene la fase de exposición durante la cual la resina se somete a radiación ultravioleta (UV). El desarrollador tendrá la función de exponer la parte del sustrato a estructurar, ya que, bajo el efecto de la radiación UV, la solubilidad de la resina varía:

  • en el caso de las llamadas resinas negativas, disminuye y causa polimerización así como una resistencia particular a revelar las áreas expuestas;
  • en el caso de las denominadas resinas positivas, la exposición UV provoca una ruptura de las macromoléculas y conduce a una solubilidad incrementada de las zonas expuestas al disolvente.

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